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激光打标加工过程中，根据加工条件、被加工件的形状以及加工要求，应该确认不同的光束导向和光束聚集，由此就需求规则的导光体系。根据导光体系中光学元件的作用不同可分为以下几类。五轴打标机
1.光束转机体系 如转机反射镜。因为激光器所输出的激光方向大多与安放在作业台上的工件待处理外表的夹角不符合处理要求，所以需求一个或多个反射镜来改变光束传输方向。同时要对这些镜座选用冷却。
2.聚集体系 如凸透镜、凹透镜。经过聚集镜能够将输出光束聚集到很小的直径上，从而提高激光功率密度，完成快速成形工艺参数的调整。三维打标机
3.匀光体系 该体系用于构成均匀能量散布的光斑，如切割叠加变换体系、积分镜和振镜体系。理论和实验研究均表明，光斑能量散布均匀（高阶模激光横截面上能量散布比较低阶模散布均匀）有助于成形件质量提高。因此当激光器输出激光为基模或低阶模高斯光束时，必须选用规则的光学体系克服低阶模横截面上能量不均这个缺点。切割叠加变换体系即将高斯光束平行切割为几个子体系，并沿着切割线平行及垂直两个方向风别进行扩大，最终将子光束按规则的相对方位进行叠加，以取得横截面内能量散布较均匀的光斑。积分镜体系用以规则排列的反射镜或投射镜将强度不均匀的光束进行切割，并使反射光束或投射光束其焦点上叠加，产生积分作用而取得均匀的光斑，振镜体系选用高频振动的镜片，使光束沿与扫描方向高频振动，在热处理过程中，产生一条均匀较宽的能量散布。
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